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NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.31 no.3, 2021년, pp.162 - 171
박성용 (인하대학교 화학공학과) , 임은택 (인하대학교 화학공학과) , 차문환 (인하대학교 화학공학과) , 이지수 (인하대학교 화학공학과) , 정지원 (인하대학교 화학공학과)
Dry etching of copper thin films is performed using high density plasma of ethylenediamine (EDA)/hexafluoroisopropanol (HFIP)/Ar gas mixture. The etch rates, etch selectivities and etch profiles of the copper thin films are improved by adding HFIP to EDA/Ar gas. As the EDA/HFIP concentration in EDA/...
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R. Rosenberg, D. C. Edelstein, C.-K. Hu and K. P. Rodbell, Annu. Rev. Mater. Sci., 30, 229 (2000).
S. P. Murarka and S. W. Hymes, Crit. Rev. Solid State Mater. Sci., 20, 87 (1995).
F. Chen and D. Gardner, IEEE Electron Device Lett., 19, 508 (1998).
S. M. Rossnagel and T. S. Kuan, J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom., 22, 240 (2004).
W. Zhang, S. H. Brongersma, N. Heylen, G. Beyer, W. Vandervorst and K. Maex, J. Electrochem. Soc., 152, C832 (2005).
M. Traving, G. Schindler and M. Engelhardt, J. Appl. Phys., 100, 094325 (2006).
S. H. Lee and Y. Kuo, J. Electrochem. Soc., 148, G524 (2001).
S. H. Lee and Y. Kuo, Thin Solid Films, 457, 326 (2004).
S. K. Lee, S. S. Chun, C. Y. Hwang and W. J. Lee, Jpn. J. Appl. Phys., 36, 50 (1997).
F. Wu, G. Levitin and D. W. Hess, J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom., 29, 011013 (2011).
S. W. Kang, H. U. Kim and S. W. Rhee, J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom., 17, 154 (1999).
E. T. Lim, J. S. Ryu and C. W. Chung, Thin Solid Films, 665, 51 (2018).
E. T. Lim, J. S. Ryu, J. S. Choi and C. W. Chung, Vacuum, 167, 145 (2019).
J. S. Ryu, E. T. Lim, J. S. Choi and C. W. Chung, Thin Solid Films, 672, 55 (2019).
M. H. Cha, E. T. Lim, S. Y. Park, J. S. Lee and C. W. Chung, Vacuum, 181, 109421 (2020).
K. J. Clay, S. P. Speakman, G. A. J. Amaratunga and S. R. P. Silva, J. Appl. Phys., 79, 7227 (1996).
S. Zimmermann, N. Ahner, F. Blaschta, M. Schaller, H. Rulke, S. E. Schulz and T. Gessner, Microelectron. Eng., 87, 337 (2010).
S. Poulston, P. M. Parlett, P. Stone and M. Bowker, Surf. Interface Anal., 24, 811 (1996).
A. Cano, Y. Avila, M. Avila and E. Reguera, J. Solid State Chem., 276, 339 (2019).
E. Cano, J. M. Bastidas, J. L. Polo and N. Mora, J. Electrochem. Soc., 148, B431 (2001).
G. Beamson and D. Briggs, High Resolution XPS of Organic Polymers : The Scienta ESCA300 Database, p.182, John Wiley & Sons, New York (1992).
M. Furukawa, H. Fujisawa, S. Katano, H. Ogasawara, Y. Kim, T. Komeda, A. Nilsson and M. Kawai, Surf. Sci., 532, 261 (2003).
G. C. Allen, F. Sorbello, C. Altavilla, A. Castorina and E. Ciliberto, Thin Solid Films, 483, 306 (2005).
H. W. Kim and N. E. Lee, J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom., 28, 715 (2010).
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오픈액세스 학술지에 출판된 논문
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