최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기한국재료학회지 = Korean journal of materials research, v.31 no.10, 2021년, pp.569 - 575
김철희 (인하대학교 화학과) , 임은택 (인하대학교 화학공학과) , 박찬호 (인하대학교 화학과) , 박성용 (인하대학교 화학공학과) , 이지수 (인하대학교 화학공학과) , 정지원 (인하대학교 화학공학과) , 김동욱 (인하대학교 화학과)
The reactivity evaluation of copper is performed using ethylenediamine, aminoethanol, and piperidine to apply organic chelators to copper etching. It is revealed that piperidine, which is a ring-type chelator, has the lowest reactivity on copper and copper oxide and ethylenediamine, which is a chain...
A. Jain, T. T. Kodas and M. J. Hampden-Smith, Thin Solid Films, 269, 51 (1995).
M. T. Bohr, Solid State Technol., 39, 105 (1996).
S. Lee and Y. Kuo, Thin Solid Films, 457, 326 (2004).
T. S. Choi, G. Levitin and D. W. Hess, ECS J. Solid State Sci. Technol., 2, 506 (2013).
S. Lee and Y. Kuo, J. Electrochem. Soc., 148, G524 (2001).
P. A. Tamirisa, G. Levitin, N. S. Kulkarni and D. W. Hess, Microelectron. Eng., 84, 105 (2007).
F. Wu, G. Levitin and D. W. Hess, ACS Appl. Mater. Interfaces, 2, 2175 (2010).
S. M. Rossnagel and T. S. Kuan, J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom., 22, 240 (2004).
W. Zhang, S. H. Brongersma, N. Heylen, G. Beyer, W. Vandervorst and K. Maex, J. Electrochem. Soc., 152, C832 (2005).
F. Wu, G. Levitin and D. W. Hess, J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom., 29, 011013 (2011).
B. J. Howard and C. Steinbruchel, Appl. Phys. Lett., 59, 914 (1991).
K. Ohno, M. Sato and Y. Arita, J. Electrochem. Soc., 143, 4089 (1996).
J. W. Lee, Y. D. Park, J. R. Childress, S. J. Pearton, F. Shariff and F. Ren, J. Electrochem. Soc., 145, 2585 (1998).
M. S. Kwon and J. Y. Lee, J. Electrochem. Soc., 146, 3119 (1999).
S. W. Kang, H. U. Kim and S. W. Rhee, J. Vac. Sci. Technol., B: Nanotechnol. Microelectron.: Mater., Process., Meas., Phenom., 17, 154 (1999).
F. Wu, G. Levitin and D. W. Hess, J. Electrochem. Soc., 159, H121 (2011).
E. T. Lim, J. S. Ryu and C. W. Chung, Thin Solid Films, 665, 51 (2018).
E. T. Lim, J. S. Ryu, J. S. Choi and C. W. Chung, Vacuum, 167, 145 (2019).
J. S. Ryu, E. T. Lim, J. S. Choi and C. W. Chung, Thin Solid Films, 672, 55 (2019).
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
오픈액세스 학술지에 출판된 논문
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.