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NTIS 바로가기반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.21 no.4, 2022년, pp.53 - 58
송재민 (서울대학교 에너지시스템공학부) , 배남재 (서울대학교 에너지시스템공학부) , 박지훈 (서울대학교 에너지시스템공학부) , 유상원 (서울대학교 에너지시스템공학부) , 권지원 (서울대학교 에너지시스템공학부) , 박태준 (서울대학교 에너지시스템공학부) , 이인규 (서울대학교 에너지시스템공학부) , 김대철 (한국핵융합에너지연구원 플라즈마 장비 지능화연구단) , 김종식 (한국핵융합에너지연구원 플라즈마 장비 지능화연구단) , 김곤호 (서울대학교 에너지시스템공학부)
Shape changes of hard mask play a key role in the aspect ratio dependent etch (ARDE). For etch process using high density and energy ions, deformation of hard mask shape becomes more severe, and high aspect ratio (HAR) etch profile is distorted. In this study, polygonal geometric model for shape-def...
Ryu, S., 2022, 'Development of Plasma Information Based Advanced Process Controller (PI-APC) for Plasma Etch Processes', PhD thesis, Seoul National University, Seoul.
Park, S., et al., "Enhancement of the Virtual Metrology Performance for Plasma-Assisted Oxide Etching Processes by Using Plasma Information (PI) Parameters", IEEE Trans. On Semicond. Manuf., Vol. 28, pp. 241-246, 2015.
Jang, Y., et al., "Characteristics of a plasma information variable in phenomenology-based, statistically-tuned virtual metrology to predict silicon dioxide etching depth", Current Applied Physics, Vol. 19, pp. 1068-1075, 2019.
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Ishikawa, T., et al., "Cooperative simulation of lithography and topography for three-dimensional high-aspect-ratio etching", Japanese Journal of Applied Physics, Vol. 57, 06JC01, 2018.
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