$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[국내논문] 이중 파장 심자외선 카타디옵트릭 NA 0.6 대물렌즈 광학 설계
Catadioptric NA 0.6 Objective Design in 193 nm with 266 nm Autofocus 원문보기

한국광학회지 = Korean journal of optics and photonics, v.34 no.2, 2023년, pp.53 - 60  

김도희 (공주대학교 광공학과) ,  주석영 (공주대학교 광공학과) ,  이준호 (공주대학교 광공학과) ,  김학용 (한국표준과학연구원 첨단측정장비연구소 우주광학팀) ,  양호순 (한국표준과학연구원 첨단측정장비연구소 우주광학팀)

초록
AI-Helper 아이콘AI-Helper

193 nm에서 반도체 전공정 검사 장치에 적용될 수 있는 반사 굴절 혼합 형식(카타디옵트릭)의 수치 구경(numerical aperture, NA) 0.6 대물렌즈를 설계하였다. 200 nm 공간 분해능 및 0.15 mm 이상의 시야를 확보하기 위하여, 먼저 렌즈 전체 배치를 포커싱 렌즈 그룹, 필드 렌즈 그룹 및 NA 변환 그룹으로 구성하였으며, 선행 그룹에 포커싱된 빔의 수치 구경 값을 필요 값, 즉 0.6으로 변환하는 기능을 수행한다. 총 11매의 광학 소자로 구성된 최종 설계는 모든 관측 시야에 대하여 λ/80 이하의 RMS 파면 수차를 만족하였다. 또한 고분해능 대물렌즈의 높은 환경 민감도로 인한 온도 변화에 따른 광학계 성능 해석 결과, ±0.1 ℃의 온도 변화에서도 목표 성능 이하로의 성능 저하가 확인되어 온도 변화에 따른 광학 보상이 반드시 필요하였다. 이에 초점면 이동을 보상자로 적용할 경우, 20 ± 1.2 ℃까지 RMS 파면 수차 변화량이 λ/30 이하로 목표 성능을 만족하여 실제 반도체 공정 환경에서도 이용이 가능함을 확인하였다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

We designed a catadioptric objective lens with a 0.6 numerical aperture (NA) for semiconductor inspection at 193 nm. The objective lens meets major requirements such as a spatial resolution of 200 nm and a field of view (FOV) of 0.15 mm or more. We selected a wavelength of 266 nm for autofocus based...

Keyword

표/그림 (16)

참고문헌 (21)

  1. J. Y. Joo, J. H. Lee, W. H. Jang, and Y. W. Lim, "Defect height estimation via model-less TSOM under optical resolution," Opt. Express 29, 27508-27520 (2021).? 

  2. J. H. Lee, J. Y. Joo, J. B. Lee, J. W. Park, J. Jeong, and O.-H. Kwon, "Through-focus optical scanning microscopy for embedded defect detection and classification," in Proc. 2022 IEEE 24th Electronics Packaging Technology Conference -EPTC (Singapore, Dec. 7-9, 2022), pp. 23-25.? 

  3. A. Yen, "Rayleigh or Abbe? Origin and naming of the resolution formula of microlithography," J. Micro/Nanolith. MEMS MOEMS 19, 04501 (2020).? 

  4. M. Daimon and A. Masumura, "High-accuracy measurements of the refractive index and its temperature coefficient of calcium fluoride in a wide wavelength range from 138 to 2,326 nm," Appl. Opt. 41, 5275-5281 (2002).? 

  5. Y. Minami, M. C. Raduban, K. Kuroda, K. Shinohara, Y. Lai, K. Yamanoi, N. Sarukura, T. Shimizu, R. Ishii, Y. Kawakami, N. Kabasawa, T. Amano, K. Kiyohara, and M. Kiyohara, "Achromatic deep ultraviolet lens using novel optical materials," Phys. Status Solidi B 257, 1900480 (2020).? 

  6. W. Vollrath, "Ultra-high-resolution DUV microscope optics for semiconductor applications," Proc. SPIE 5865, 117-125 (2005).? 

  7. W. Ulrich, H.-J. Rostalski, and R. M. Hudyma, "The development of dioptric projection lenses for DUV lithography," Proc. SPIE 4832, 158-169 (2002).? 

  8. T. Sure, T. Bauer, J. Heil, and J. Wesner, "DUV-Microscope objectives: technology driver that forces the production to switch from the micrometer scale to the nanometer scale," Proc. SPIE 5965, 59651H (2005).? 

  9. T. Ishiyama and K. Yamaguchi, "High NA projection lens designs for exposure tools," Proc. SPIE 4832, 175-180 (2002).? 

  10. J. E. Webb, "Using multi-function components to solve optical design challenges for DUV microlithographic applications," Proc. SPIE 5874, 587401 (2005).? 

  11. T. Matsuyama, Y. Ohmura, Y. Fujishima, and T. Koyama, "Catadioptric projection lens for 1.3 NA scanner," Proc. SPIE 6520, 652021 (2007).? 

  12. Z. Cao, Y. Li, and S. Mao, "Grouping design method of catadioptric projection objective for deep ultraviolet lithography," Opt. Eng. 56, 025102 (2017).? 

  13. J. E. Webb, J. Bentley, P. F. Michaloski, A. R. Phillips, and T. Tienvieri, "Optical design forms for DUV and VUV microlithographic processes," Proc. SPIE 4346, 566-576 (2001).? 

  14. T. Sure, J. Heil, and J. Wesner, "Microscope objective production: On the way from the micrometer scale to the nanometer scale," Proc. SPIE 5180, 283-292 (2003).? 

  15. K.-M. Choi, J.-E. Lee, K.-Y. Cho, K.-S. Kim, and S.-H. Cho, "Clean room structure, air conditioning and contamination control systems in the semiconductor fabrication process," J. Korean Soc. Occup. Environ. Hyg. 25, 202-210 (2015).? 

  16. J. Yin, X. Liu, B. Guan, Z. Ma, and T. Zhang, "Performance analysis and energy saving potential of air conditioning system in semiconductor cleanrooms," J. Build. Eng. 37, 102158 (2021).? 

  17. D. R. Shafer, Y.-H. Chuang, and J. J. Armstrong, "Small catadioptric microscope optics," Proc. SPIE 5523, 12-18 (2004).? 

  18. Y.-H. Chuang, D. Shafer, B.-M. B. Tsai, and J. J. Armstrong, "High NA system for multiple mode imaging," U.S. Patent 6064517A (2000).? 

  19. D. R. Shafer, Y.-H. Chuang, and J. J. Armstrong, "Catadioptric imaging system for broad band microscopy," U.S. Patent 8675276B2 (2014).? 

  20. Y.-H. Chuang, D. R. Shafer, and J. J. Armstrong, "Small ultrahigh NA catadioptric objective," U.S. Patent 7646533B2 (2005).? 

  21. S. C. Park, H. J. Moon, and M. H. Lee, "The design of athermalized tessar type by optimization of mounting structure and materials," J. Opt. Soc. Korea 4, 133-139 (1993). 

저자의 다른 논문 :

활용도 분석정보

상세보기
다운로드
내보내기

활용도 Top5 논문

해당 논문의 주제분야에서 활용도가 높은 상위 5개 콘텐츠를 보여줍니다.
더보기 버튼을 클릭하시면 더 많은 관련자료를 살펴볼 수 있습니다.

관련 콘텐츠

오픈액세스(OA) 유형

GOLD

오픈액세스 학술지에 출판된 논문

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로