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Bare Wafer 세정용 1 MHz 급 메가소닉 개발
Development of a 1 MHz Megasonic for a Bare Wafer Cleaning 원문보기

반도체디스플레이기술학회지 = Journal of the semiconductor & display technology, v.22 no.2, 2023년, pp.17 - 23  

김현세 (한국기계연구원 고효율에너지기계연구부) ,  임의수 (한국기계연구원 고효율에너지기계연구부)

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

In semiconductor manufacturing processes, a cleaning process is important that can remove sub-micron particles. Conventional wet cleaning methods using chemical have limits in removing nano-particles. Thus, physical forces of a mechanical vibration up to 1 MHz frequency, was tried to aid in detachin...

주제어

#Megasonic   #Cleaning   #Semiconductor   #Wafer   #Finite Element Analysis  

참고문헌 (16)

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    상세보기

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  12. Li, Z., Chen, X., Yang, S., Zhang, D., Xu, J., Ma, R.,？Shan, D., and Guo, B., "Removal Mechanism of？Liquid-assisted Nanosecond Pulsed Laser Cleaning？TA15 Titanium Alloy Oxide Film," Journal of Materials？Research and Tech., Vol. 157, p. 107130, 2022.？ 

  13. Cheng, Y., Wang, S., Li, H., Wang, C., Yang, Y., Lei, S.,？and Li, S., "Study on Particle Removal during the Co？Post-CMP Cleaning Process," Colloids and Surfaces A:？Physicochemical and Eng. Aspects, Vol. 627, p. 127189,？2021.？ 

  14. Kim, H. J., and Rovereto, M., "Effect of Brush Cleaning？on Defect Generation in Post Copper CMP,"？Microelectronic Eng., Vol. 261, p. 111808, 2022.？ 

  15. Reinhardt, K. A., and Kern W., "Handbook of Silicon？Wafer Cleaning Technology," Elsevier Inc., Amsterdam,？Netherlands, 2018.？ 

  16. Kohli, R. and Mittal, K. L., "Developments in Surface？Contamination and Cleaning: Applications of Cleaning？Techniques," Elsevier Inc., Amsterdam, Netherlands,？2019. 

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