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[해외논문] Hydrogen-containing carbon nitride films produced by the combined hot filament–plasma CVD technique

Thin solid films, v.377/378, 2000년, pp.280 - 284  

Wang, Jianjun (Laborató) ,  de Moraes, Mário A.B (rio de Processos de Plasma, Departamento de Fı) ,  Baranauskas, Vı́tor (́) ,  Durrant, Steven F (sica Aplicada, Instituto de Fı)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

AbstractCarbon nitride films were prepared by combined hot filament (HF) and radiofrequency (RF) plasma enhanced chemical vapor deposition techniques from three mixtures, C2H6–N2–Ar, C2H4–N2–Ar and C2H2–N2–Ar, denominated M1, M2 and M3, respectively. Deposit...

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참고문헌 (26)

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  7. Nucl. Instrum. Methods Phys. Res. B Enders 121 73 1997 10.1016/S0168-583X(96)00642-8 

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  25. Jpn. J. Appl. Phys. Kobayashi 36 5187 1997 10.1143/JJAP.36.5187 

  26. R.C. Weast (Ed.), Handbook of Chemistry and Physics, 55th ed., CRC Press, Cleveland, 1974, p. F205. 

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