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[해외논문] Phase transformations in hafnium dioxide thin films grown by atomic layer deposition at high temperatures

Applied surface science, v.173 no.1/2, 2001년, pp.15 - 21  

Aarik, Jaan (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) ,  Aidla, Aleks (he 4, 51010 Tartu, Estonia) ,  Mändar, Hugo (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) ,  Uustare, Teet (he 4, 51010 Tartu, Estonia) ,  Kukli, Kaupo (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) ,  Schuisky, Mikael (he 4, 51010 Tartu, Estonia)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

AbstractHigh-temperature cubic phase of HfO2 was observed by reflection high-energy electron diffraction in nanocrystalline thin films grown by atomic layer deposition from HfCl4 and H2O at substrate temperatures of 880–940°C. The phase was formed at properly chosen precursor doses and...

주제어

참고문헌 (19)

  1. J. Mater. Sci. Wang 27 5397 1992 10.1007/BF00541601 

  2. J. Mater. Sci. Lett. Leger 13 1688 1994 10.1007/BF00451741 

  3. Phys. Rev. B Leger 48 93 1993 10.1103/PhysRevB.48.93 

  4. Thin Solid Films Ritala 250 72 1994 10.1016/0040-6090(94)90168-6 

  5. Appl. Phys. Lett. Kukli 68 3737 1996 10.1063/1.115990 

  6. Thin Solid Films Aarik 340 110 1999 10.1016/S0040-6090(98)01356-X 

  7. Langmuir Kytokivi 13 2717 1997 10.1021/la961085d 

  8. J. Electrochem. Soc. Kukli 144 300 1997 10.1149/1.1837399 

  9. Nanostruc. Mater. Kukli 8 785 1997 10.1016/S0965-9773(98)00003-8 

  10. Phil. Mag. Lett. Aarik 73 115 1996 10.1080/095008396180911 

  11. J. Cryst. Growth Aarik 181 259 1997 10.1016/S0022-0248(97)00279-0 

  12. J. Cryst. Growth Aarik 148 268 1995 10.1016/0022-0248(94)00874-4 

  13. Joint Committee on Powder Diffraction Standards, Card 21-0904. 

  14. Joint Committee on Powder Diffraction Standards, File 8-342. 

  15. J. Am. Ceram. Soc. El-Shanshoury 53 264 1969 10.1111/j.1151-2916.1970.tb12090.x 

  16. Joint Committee on Powder Diffraction Standards, File 34-104. 

  17. Surf. Sci. McCartney 250 169 1991 10.1016/0039-6028(91)90719-9 

  18. Appl. Phys. Lett. Bellotto 63 2056 1993 10.1063/1.110590 

  19. Chem. Mater. Srinivasan 7 725 1995 10.1021/cm00052a018 

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