[논문]Phase transformations in hafnium dioxide thin films grown by atomic layer deposition at high temperatures

doi:10.1016/S0169-4332(00)00859-X

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[해외논문] Phase transformations in hafnium dioxide thin films grown by atomic layer deposition at high temperatures

Applied surface science, v.173 no.1/2, 2001년, pp.15 - 21

Aarik, Jaan (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) , Aidla, Aleks (he 4, 51010 Tartu, Estonia) , Mändar, Hugo (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) , Uustare, Teet (he 4, 51010 Tartu, Estonia) , Kukli, Kaupo (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) , Schuisky, Mikael (he 4, 51010 Tartu, Estonia)

Abstract ▼ AI-Helper

AbstractHigh-temperature cubic phase of HfO2 was observed by reflection high-energy electron diffraction in nanocrystalline thin films grown by atomic layer deposition from HfCl4 and H2O at substrate temperatures of 880–940°C. The phase was formed at properly chosen precursor doses and it was observed on the surface of films, which according to X-ray diffraction data consisted of monoclinic HfO2. The thickness of the surface layer, in which the cubic phase appeared, was estimated to be 5–10nm. According to Auger electron spectroscopy data, formation of the cubic phase was accompanied with an increase in the ionicity of O–Hf bonds.

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참고문헌 (19)

J. Mater. Sci. Wang 27 5397 1992 10.1007/BF00541601

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Appl. Phys. Lett. Bellotto 63 2056 1993 10.1063/1.110590

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Chem. Mater. Srinivasan 7 725 1995 10.1021/cm00052a018

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