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NTIS 바로가기Applied surface science, v.173 no.1/2, 2001년, pp.15 - 21
Aarik, Jaan (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) , Aidla, Aleks (he 4, 51010 Tartu, Estonia) , Mändar, Hugo (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) , Uustare, Teet (he 4, 51010 Tartu, Estonia) , Kukli, Kaupo (Institute of Materials Science, University of Tartu, Tä) , Schuisky, Mikael (he 4, 51010 Tartu, Estonia)
AbstractHigh-temperature cubic phase of HfO2 was observed by reflection high-energy electron diffraction in nanocrystalline thin films grown by atomic layer deposition from HfCl4 and H2O at substrate temperatures of 880–940°C. The phase was formed at properly chosen precursor doses and...
J. Mater. Sci. Wang 27 5397 1992 10.1007/BF00541601
J. Mater. Sci. Lett. Leger 13 1688 1994 10.1007/BF00451741
Phys. Rev. B Leger 48 93 1993 10.1103/PhysRevB.48.93
Thin Solid Films Ritala 250 72 1994 10.1016/0040-6090(94)90168-6
Appl. Phys. Lett. Kukli 68 3737 1996 10.1063/1.115990
Thin Solid Films Aarik 340 110 1999 10.1016/S0040-6090(98)01356-X
Langmuir Kytokivi 13 2717 1997 10.1021/la961085d
J. Electrochem. Soc. Kukli 144 300 1997 10.1149/1.1837399
Nanostruc. Mater. Kukli 8 785 1997 10.1016/S0965-9773(98)00003-8
Phil. Mag. Lett. Aarik 73 115 1996 10.1080/095008396180911
J. Cryst. Growth Aarik 181 259 1997 10.1016/S0022-0248(97)00279-0
J. Cryst. Growth Aarik 148 268 1995 10.1016/0022-0248(94)00874-4
Joint Committee on Powder Diffraction Standards, Card 21-0904.
Joint Committee on Powder Diffraction Standards, File 8-342.
J. Am. Ceram. Soc. El-Shanshoury 53 264 1969 10.1111/j.1151-2916.1970.tb12090.x
Joint Committee on Powder Diffraction Standards, File 34-104.
Surf. Sci. McCartney 250 169 1991 10.1016/0039-6028(91)90719-9
Appl. Phys. Lett. Bellotto 63 2056 1993 10.1063/1.110590
Chem. Mater. Srinivasan 7 725 1995 10.1021/cm00052a018
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