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NTIS 바로가기Japanese journal of applied physics. Part 1, Regular papers & short notes, v.30 no.3, 1991년, pp.612 -
Asai, Satoru , Hanyu, Isamu , Mitsuji Nunokawa , Masayuki Abe
We studied the thermal effects in a positive photoresist during post exposure baking (PEB). Infrared analysis and the reduced dissolution rate in the exposed resist suggest that the carboxylic acid is decreased and/or that ECA solvent evaporates. In order to simulate the effects, we assume that the...
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