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NTIS 바로가기Journal of nanoscience and nanotechnology, v.13 no.3, 2013년, pp.1918 - 1922
Kim, Dong-Hyun , Kang, Se-Koo , Yeom, Geun-Young , Jang, Jae-Hyung
A nanometer-scale grating structure with a 60-nm-wide gap and 200-nm-wide ridge has been successfully demonstrated on a silicon-on-insulator substrate by using a 220-nm-thick hydrogen silsesquioxane (HSQ) negative tone electron beam resist. A post exposure baking (PEB) process and hot development pr...
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