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NTIS 바로가기Microelectronic engineering, v.11 no.1/4, 1990년, pp.147 - 152
Samarakone, N. (IMEC, Kapeldreef 75, Leuven, Belgium) , Jaenen, P. (IMEC, Kapeldreef 75, Leuven, Belgium) , Van den hove, L. (IMEC, Kapeldreef 75, Leuven, Belgium)
AbstractA method of improving the upper part of a developed resist profile, over that obtained with an optimised post exposure bake process is demonstrated. This is achieved by administering an additional low temperature bake, midway through the development cycle; the so called intermediate developm...
Digest of Papers 1st MicroProcess Conference Endo 164 1988
Koshiba 920 371 1988
Digest of Papers 1st MicroProcess Conference Ogawa 162 1988
Tanaka 1088 483 1989
J. Vac. Sci. Technol. B Moreau Vol. 6 No. 6 2238 1988 10.1116/1.584089
Hamel 1979 IBM Technical Disclosure BV878-0157
Lin 31 1985 Microcircuit Engineering 84
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