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NTIS 바로가기Microelectronics and reliability, v.24 no.1, 1984년, pp.165 -
Singh, A. , Khokle, W.S.
This note reports the ashing process for dry photolithography. Various advantages and possible applications of the process are also pointed out....
Singh 68 536 1980
Microelectron. Reliab. Singh 20 53 1980
Vacuum Singh 32 113 1982 10.1016/S0042-207X(82)80007-9
Goodner 1979 Kodak Microelectronics Seminar, Proc. Interface 1979
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