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초미세 패턴 응용기술 개발
Development and Application of Fine Pattern Technology on GaAs 원문보기

보고서 정보
주관연구기관 한국전자통신연구원
Electronics and Telecommunications Research Institute
연구책임자 이용탁
참여연구자 강광남 , 이정일 , 이유종 , 이명복 , 한일기 , 최원준 , 홍성훈 , 신헌철 , 이석
발행국가대한민국
언어 한국어
발행년월1991-06
주관부처 과학기술부
사업 관리 기관 한국과학기술연구원
Korea Institute Of Science and Technology
등록번호 TRKO200200002977
DB 구축일자 2013-04-18
키워드 초미세 패턴 형성.반도체 가공기술.초고주파 집적회로.Low Noise Amplifier.DBS.MMIC.GaAs MESFET.E-Beam Lithography.

초록 ▼

초고속, 초고주파 반도체 소자 제조 공정기술의 핵심은 초미세 패턴 형성 및 구조가공기술에 달려있다. 본 과제는 Submicron급 초미세 패턴 형성 및 반도체 가공기술을 개발 안정화하여 초고주파 집적회로 기술로의 응용을 연구하였다. 초고주파 집적회로 기술은 소자공정기술, 설계기술, Test및 측정기술 분야의 병진적 기술발전으로 도달할 수 있는 첨단 기술분야로서, 엄격한 재현성과 공정 최적화 초고주파 이론 및 회로설계 이론에 근거한 단일 능수동 소자, 증폭기, 발진기등의 다양한 목적소자 설계기술, DC에서 40GHz에 이르는 초고주파

목차 Contents

  • 제1장 서론...15
  • 제2장 마스크 설계 및 기판구조 성장...25
  • 제1절 12-layer 마스크 설계 및 제작...25
  • 제2절 기판 구조 성장...32
  • 제3장 초미세 패턴 형성 및 소자 제조기술...36
  • 제1절 전자선 직접묘사 및 다층 정렬기능...36
  • 제2절 RIE로 표면처리된 diode 제작 및 특성분석...45
  • 제3절 초고주파 직접회로용 능$\cdot$수동소자 공정기술...61
  • 제4장 초고주파 소자 특성 측정 및 해석...90
  • 제1절 GaAs MESFET의 기생 직렬저항 Rs, Rd의 게이트 전압 의존성에 대한 연구...90
  • 제2절 Library 구축을 위한 초고주파 능동$\cdot$수동소자 모델링...114
  • 제3절 RF 측정시스템 구성 및 on-wafer 자동 측정...140
  • 제5장 초고주파 회로 설계기술...148
  • 제1절 광대역 증폭기 설계...148
  • 제2절 분산형 광대역 증폭기 설계...158
  • 제3절 Branch line coupler를 사용하는 balanced형 전력증폭 MIC 설계...178
  • 제6장 결론 및 건의...182
  • 참고문헌...186
  • 부록...191

연구자의 다른 보고서 :

참고문헌 (25)

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