$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

[해외논문] Fabrication of a miniaturized electron lens system and laser micro-machining condition for silicon membrane

Microelectronic engineering, v.69 no.1, 2003년, pp.57 - 64  

Ahn, Seungjoon (Department of Physics) ,  Kim, Dae-Wook (Department of Physics) ,  Kim, Ho Seob (Department of Physics) ,  Ahn, Seong Joon (Division of Electronics, Informations and Communication Engineering, Sun Moon University, Ahsan, Chungnam 336-840, South Korea) ,  Cho, Jaewon (Department of Electrophysics, Kwangwoon University, Seoul 139-701, South Korea)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

AbstractFor a miniaturized electron beam system application, miniaturized electrostatic electron lenses and their assembly, called a microcolumn, have been fabricated using an active Q-switched 1.06 μm Nd:YAG pulsed laser beam. The laser micro-machining condition for 20 μm thick Si mem...

주제어

참고문헌 (19)

  1. J. Vac. Sci. Technol. B Chang 10 2743 1992 10.1116/1.585994 

  2. J. Vac. Sci. Technol. B Crewe 10 2754 1992 10.1116/1.585996 

  3. J. Vac. Sci. Technol. B Chang 14 3774 1996 10.1116/1.588666 

  4. Wolf 1995 Silicon Processing for the VLSI Era 

  5. J. Vac. Sci. Technol. B Lee 12 3425 1994 10.1116/1.587525 

  6. J. Vac. Sci. Technol. B Thomson 13 2445 1995 10.1116/1.588018 

  7. Appl. Phys. A Ahn 69 s527 1999 10.1007/s003390051461 

  8. J. Appl. Phys. Beyer 70 75 1991 10.1063/1.350246 

  9. J. Mater. Res. Oliveira 12 3206 1997 10.1557/JMR.1997.0418 

  10. SPIE Washio 3618 230 1999 10.1117/12.352686 

  11. Appl. Phys. Lett. Du 64 3071 1994 10.1063/1.111350 

  12. IEEE. J. Quant. Electron. Paek QE-8 112 1972 10.1109/JQE.1972.1076946 

  13. IEEE. J. Quant. Electron. Liu QE-33 1706 1997 10.1109/3.631270 

  14. J. Appl. Phys. Chun 41 614 1970 10.1063/1.1658722 

  15. IEEE. J. Quant. Electron. Dabby QE-8 106 1972 10.1109/JQE.1972.1076937 

  16. Ready 1997 Industrial Application of Lasers 

  17. Opt. Commun. Strickland 56 219 1985 10.1016/0030-4018(85)90120-8 

  18. Jpn. J. Appl. Phys. Ahn 37 L789 1998 10.1143/JJAP.37.L789 

  19. Microelectronic Eng. Chang 32 113 1996 10.1016/0167-9317(95)00366-5 

섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로