다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기
レーザー硏究 = The Review of laser engineering, v.32 no.12, 2004년, pp.744 - 749
岡崎 信次 (技術研)
AI-Helper
EUV lithography is the most promising candidate for the replication of patterns for the 45-nm technology node and below. There are many issues in EUV lithography currently under intensive investigation. They concern (1) a high-power light source, (2) aspherical optics, (3) the exposure system, (4) m...
10.1109/JSSC.1974.1050511 1) R. H. Denard, F. H. Gaensslen, H-N. Yu, V. L. Rideout, E. Bassous, and A. R. Leblane: IEEE Solid State Circuits SC-9 (1974) 256.
2) G. E. Moore: Tech. Digest of IEDM 1975 (1975) 11.
10.1109/T-ED.1982.21037 4) M. D. Levenson, N. S. Viswanathan, and R. A. Simpson, IEEE Trans. ED-29 (1982) 1828.
10.1109/T-ED.1983.21283 5) A. K. Liu and B. J. Lin: IEEE Trans. ED-30 (1983) 1251.
10.1116/1.590313 6) J. Randall and A. Tritchnor: J Vac. Sci. Technol. B16 (1998) 3606.
10.1116/1.584507 7) H. Kinoshita, K. Kurihara, Y. Ishii, and Y. Torii: J. Vac. Sci. Technol. B7 (1989) 1648.
10.1116/1.585106 8) J. E. Bjorkholm, J. Boker, L. Eichner, R. R. Freeman, J. Gregus, T. E. Jewell, W. M. Mansfield, A. A. MacDowell, E. L. Raab, W. T. Silfvast, L. H. Szeto, D. H. Tennant, W. K. Waskiewicz, D. L. White, D. L. Windt, O. R. WoodII, and J. H. Bruning: J. Vac. Sci. Technol. B8 (1990) 1509.
10.1117/12.23324 9) H. Takenaka, Y. Ishii, H. Kinoshita, and K. Kurihara: Proc. of SPIE 1345 (1990) 213.
10.1116/1.590453 10) C. Gwyn, R. Stulen, D. Sweeney, and D. Attwood: J. Vac. Sci. Technol. B16 (1998) 3142.
10.1117/12.435753 11) T. Matsuyama, J. Misawa, and Y. Shibazaki: Proc. of SPIE 4346 (2001) 558.
10.1117/12.390083 12) D. A. Tichenor, G. D. Kubiak, W. C. Replogle, L. E. Klebanoff, J. B. Wronosky, L. C. Hale, H. N. Chapman, J. S. Taylor, J. A. Folta, C. Montcalm, R. M. Hudyma, K. A. Goldberg, and P. Naulleau, Proc. of SPIE 3997 (2000) 48.
10.1117/12.472343 13) K. Ota, T. Yamamoto, Y. Fukuda, K. Otaki, I. Nishiyama, and S. Okazaki: Proc. of SPIE 4688 (2002) 690.
10.1117/12.472344 14) K. Sugisaki, Y. Zhu, Y. Gomei, and M. Hiibe: Proc. of SPIE 4688 (2002) 695.
15) T. Hasegawa, T. Ouchi, M. Hasegawa, S. Kato, K. Sugisaki, A. Suzuki, K. Murakami, J. Saito, and N. Niibe: to be published in Proc. of SPIE 5374 (2004).
16) K. Ota: ISMT EUVL Source Workshop February (2003).
17) K. Ota, K. Tanaka, and H. Kondo: Book of Abstracts, 2nd EUVL Symposium (2003).
18) L. E. Klebanoff, S. Graham, Jr., S. J. Haney, P. A. Grunow, W. M. Clift, and A. H. Leung: Proc. of SPIE 5037 (2003).
10.1117/12.392025 19) P. Y. Yan, G. Zhang, P. Kofron, J. Powers, M. Tran, T. Liang, A. Stivers, and Fu-C. Lo: Proc. of SPIE 4066 (2000) 116.
10.1117/12.436702 20) M. Takahashi, T. Ogawa, E. Hoshino, H. Hoko. B. T. Lee, A. Chiba, H. Yamanashi, and S. Okazaki: Proc. of SPIE 4343 (2001) 760.
21) Y. Tanaka, D. Kim, H. Yamanashi, and I. Nishiyama: to be published in Proc. of SPIE 5374 (2004).
22) T. Shoki, T. Kinoshita, M. Hosoya, N. Sakaya, H. Kobayashi, R. Ohkubo, Y. Usui, and O. Nagarekawa: Book of abstracts, 2<sup>nd</sup> Int. EUV Symp. (2003).
23) T. Hashimoto, H. Yamanashi, M. Sugawara, and I. Nishiyama: to be published in Proc. of SPIE 5446 (2004).
24) J. Cavelaars, J. G. Maltabes, P. Seidel, A. Ma, and K. Kemp: to be published in Proc. of SPIE 5375 (2004).
25) Y. Tezuka, M. Ito, T. Terasawa, and T. Tomie: to be published in Proc. of SPIE 5374 (2004).
10.1143/JJAP.38.7109 26) N. N. Matsuzawa, S. Mori, H. Oizumi, E. Yano, S. Okazaki, A. Ishitani, and D. A. Dixon: Jpn. J. of Appl. Phys. 38 (1999) 7109.
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
출판사/학술단체 등이 한시적으로 특별한 프로모션 또는 일정기간 경과 후 접근을 허용하여, 출판사/학술단체 등의 사이트에서 이용 가능한 논문
Copyright KISTI. All Rights Reserved.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.