[논문]dc magnetron system for cathode sputtering

doi:10.1016/S0042-207X(76)80483-6

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[해외논문] dc magnetron system for cathode sputtering

Vacuum, v.26 no.6, 1976년, pp.237 - 241

Kirov, KI , Ivanov, NA , Atanasova, ED , Minchev, GM

Abstract ▼ AI-Helper

A dc magnetron system for cathode sputtering with a spool-shaped cathode is described. In comparison with the cylindrical cathode, the spool-shaped cathode increases the intensity of the discharge by one order of magnitude for gas pressures of 10−2 to 10−3 torr. The main characterist...

참고문헌 (16)

J Appl Phys Ball 43 3047 1972 10.1063/1.1661657

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J Appl Phys Chapman 45 2115 1974 10.1063/1.1663554

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J Vac Sci Technol Muth 8 99 1971 10.1116/1.1316372

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J Vac Sci Technol Lau 9 1196 1972 10.1116/1.1317012

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J Vac Sci Technol Vossen 8 S12 1971 10.1116/1.1316386

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J Sci Instrum, Ser 2 Holland 1 32 1968 10.1088/0022-3735/1/1/307

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J Vac Sci Technol Lamonl 6 124 1969 10.1116/1.1492641

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Penning 43 41 1941
Rev Sci Instrun Gill 36 277 1965 10.1063/1.1719553

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J Appl Phys Kay 34 760 1963 10.1063/1.1729530

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Holland 1974
Andrew 337 1968 Proc Fourth Intern Vacuum Congress
J Vac Sci Technol Lamont 6 47 1969 10.1116/1.1492621

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Vacuum Wutz 19 1 1969 10.1016/S0042-207X(69)92069-7

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J Appl Phys Knauer 33 2093 1962 10.1063/1.1728902

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Izv AN Arm SSK, Fizika Reikhrudel 7 443 1972

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