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[해외논문] Ionization in inductively coupled argon plasmas studied by optical emission spectroscopy

Journal of applied physics, v.109 no.1, 2011년, pp.013306 -   

Lee, Young-Kwang (Hanyang University Department of Electrical Engineering, , 17 Haengdang-dong, Seongdong-gu, Seoul 133-791, South Korea) ,  Chung, Chin-Wook (Hanyang University Department of Electrical Engineering, , 17 Haengdang-dong, Seongdong-gu, Seoul 133-791, South Korea)

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Contribution of stepwise ionization to total ionization was experimentally investigated in low-pressure inductively coupled argon plasmas. In the pressure range 3-50 mTorr, optical emission spectroscopy was employed to determine metastable fractions (metastable density relative to ground state densi...

참고문헌 (35)

  1. Plasma Sources Sci. Technol. 1 109 1992 10.1088/0963-0252/1/2/006 

  2. J. Appl. Phys. 49 3814 1978 10.1063/1.325385 

  3. J. Appl. Phys. 73 3668 1993 10.1063/1.352926 

  4. Plasma Sources Sci. Technol. 15 S137 2006 10.1088/0963-0252/15/4/S01 

  5. J. Phys. D: Appl. Phys. 37 R143 2004 10.1088/0022-3727/37/12/R01 

  6. J. Appl. Phys. 80 2624 1996 10.1063/1.363178 

  7. Phys. Rev. E 58 7823 1998 10.1103/PhysRevE.58.7823 

  8. J. Appl. Phys. 95 870 2004 10.1063/1.1636527 

  9. Plasma Sources Sci. Technol. 18 035017 2009 10.1088/0963-0252/18/3/035017 

  10. J. Phys. D: Appl. Phys. 41 065206 2008 10.1088/0022-3727/41/6/065206 

  11. J. Korean Phys. Soc. 52 1792 2008 10.3938/jkps.52.1792 

  12. J. Appl. Phys. 101 073309 2007 10.1063/1.2715845 

  13. J. Appl. Phys. 57 82 1985 10.1063/1.335400 

  14. J. Appl. Phys. 91 3539 2002 10.1063/1.1452772 

  15. J. Appl. Phys. 98 113304 2005 10.1063/1.2137883 

  16. Appl. Phys. Lett. 87 131502 2005 10.1063/1.2056592 

  17. J. Phys. D: Appl. Phys. 41 155203 2008 10.1088/0022-3727/41/15/155203 

  18. J. Vac. Sci. Technol. A 20 555 2002 10.1116/1.1454126 

  19. Principles of Plasma Discharges and Materials Processing 2nd ed. 2004 

  20. 2008 

  21. J. Phys. D: Appl. Phys. 37 2827 2004 10.1088/0022-3727/37/20/009 

  22. Phys. Rev. A 57 267 1998 10.1103/PhysRevA.57.267 

  23. Phys. Rev. A 59 2749 1999 10.1103/PhysRevA.59.2749 

  24. Appl. Phys. Lett. 75 328 1999 10.1063/1.124365 

  25. J. Phys. D: Appl. Phys. 42 145206 2009 10.1088/0022-3727/42/14/145206 

  26. J. Chem. Phys. 43 1464 1965 10.1063/1.1696957 

  27. Phys. Rev. A 20 445 1979 10.1103/PhysRevA.20.445 

  28. J. Phys. B 32 4249 1999 10.1088/0953-4075/32/17/309 

  29. Plasma Sources Sci. Technol. 16 399 2007 10.1088/0963-0252/16/2/025 

  30. Phys. Plasmas 13 053502 2006 10.1063/1.2193535 

  31. J. Appl. Phys. 84 121 1998 10.1063/1.368009 

  32. J. Appl. Phys. 87 8304 2000 10.1063/1.373542 

  33. J. Phys. D: Appl. Phys. 41 035208 2008 10.1088/0022-3727/41/3/035208 

  34. Spectrochim. Acta, Part B 62 344 2007 10.1016/j.sab.2007.03.026 

  35. Plasma Sources Sci. Technol. 11 525 2002 10.1088/0963-0252/11/4/320 

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