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NTIS 바로가기Journal of nanoscience and nanotechnology, v.11 no.1, 2011년, pp.528 - 532
Kim, Sang-Kon , Oh, Hye-Keun , Jung, Young-Dae , An, Ilsin
Photoresist lithography has been applied to the fabrication of micro/nano devices, such as microfluidic structures, quantum dots, and photonic devices, in MEMS (micro-electro mechanical systems) and NEMS (nano-electro-mechanical systems). In particular, nano devices can be expected to present differ...
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