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Directed self-assembly of block copolymers for next generation nanolithography 원문보기

Materials today, v.16 no.12, 2013년, pp.468 - 476  

Jeong, S.J. ,  Kim, J.Y. ,  Kim, B.H. ,  Moon, H.S. ,  Kim, S.O.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

Directed self-assembly of block copolymers has received a great deal of research attention as a promising nanolithography to complement the intrinsic limitations of conventional photolithography. In this review, we highlight the recent progress in the development of the directed self-assembly proces...

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