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NTIS 바로가기등록일자 | 2014-02-07 |
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출처 | KOSEN-코센리포트 |
URL | https://kosen.kr/info/kosen/761303 |
1. 분석자 서문
고분자 블록 공중합체의 Directed self-assembly(DSA) 기술은 기존 리소그래피 기술의 원천적인 한계점을 완벽하게 극복할 수 있는 차세대 나노리소그래피로 주목을 받고 있다. 본 보고서에서는 실제 반도체 공정에 적용할 수 있는 DSA 공정의 개발에 대한 최근 연구 진행 결과에 대해 서술하고자 한다. 다양한 차세대 DSA 공정이 개발되었으며, 이들 중에서 기존 ArF 광원 또는 I-line 광원을 사용하는 상용 리소그래피 공정과 완벽하게 결합될 수 있는 epitaxial self-assembly
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