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NTIS 바로가기Vacuum, v.121, 2015년, pp.294 - 299
Jeon, M.H. , Yang, K.C. , Kim, K.N. , Yeom, G.Y.
The characteristics of a synchronized pulse plasma using 60 MHz radio frequency as a source power and 2 MHz radio frequency as a bias power were investigated for the etching of SiO2 masked with an amorphous carbon layer (ACL) in a C4F8/Ar/O2 gas mixture. Especially, the effects of the pulse phase la...
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