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Micro-pyramidal structure fabrication on polydimethylsiloxane (PDMS) by Si (100) KOH wet etching 원문보기

Journal of the Korean Physical Society, v.71 no.8, 2017년, pp.506 - 509  

Hwang, Shinae ,  Lim, Kyungsuk ,  Shin, Hyeseon ,  Lee, Seongjae ,  Jang, Moongyu

Abstract ▼ AI-Helper 아이콘AI-Helper

A high degree of accuracy in bulk micromachining is essential to fabricate micro-electro-mechanical systems (MEMS) devices. A series of etching experiments is carried out using 40 wt% KOH solutions at the constant temperature of 70 degrees C. Before wet etching, SF6 and O-2 are used as the dry etchi...

참고문헌 (9)

  1. Proc. IEEE J. M. Bustillo 86 1552 1998 10.1109/5.704260 J. M. Bustillo, R. T. Howe and R. S. Muller, Proc. IEEE 86, 1552 (1998). 

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  2. J. Microelectromech. Syst. B. H. Jo 9 76 2000 10.1109/84.825780 B. H. Jo, L. M. Van Lerberghe, K. M. Motsegood and D. J. Beebe, J. Microelectromech. Syst. 9, 76 (2000). 

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  8. Q. Michael 446 2001 Semiconductor manufacturing technology Q. Michael and S. Julian, Semiconductor manufacturing technology (Prentice Hall, US, 2001), Vol. 1, p. 446. 

  9. J. Microelectromech. syst. L. M. Landsberger 5 106 1996 10.1109/84.506198 L. M. Landsberger, S. Nsaeh, M. Kahrizi and M. Paranjape, J. Microelectromech. syst. 5, 106 (1996). 

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