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NTIS 바로가기Journal of the Korean Physical Society, v.71 no.8, 2017년, pp.506 - 509
Hwang, Shinae , Lim, Kyungsuk , Shin, Hyeseon , Lee, Seongjae , Jang, Moongyu
A high degree of accuracy in bulk micromachining is essential to fabricate micro-electro-mechanical systems (MEMS) devices. A series of etching experiments is carried out using 40 wt% KOH solutions at the constant temperature of 70 degrees C. Before wet etching, SF6 and O-2 are used as the dry etchi...
Proc. IEEE J. M. Bustillo 86 1552 1998 10.1109/5.704260 J. M. Bustillo, R. T. Howe and R. S. Muller, Proc. IEEE 86, 1552 (1998).
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Proc. IEEE G. T. Akovacs 86 1536 1998 10.1109/5.704259 G. T. Akovacs, N. I. Maluf and K. E. Petersen, Proc. IEEE 86, 1536 (1998).
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J. Microelectromech. syst. L. M. Landsberger 5 106 1996 10.1109/84.506198 L. M. Landsberger, S. Nsaeh, M. Kahrizi and M. Paranjape, J. Microelectromech. syst. 5, 106 (1996).
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