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NTIS 바로가기Materials Research Society symposia proceedings, v.260, 1992년, pp.373 -
Bourgeois, Mark A. , Ramkumar, K. , Saxena, Arjun N.
ABSTRACTThe effects of TEOS (Tetra-ethyl-ortho-silicate) concentration on the physical, chemical and electrical characteristics of undoped SiO2 films deposited by plasma (PECVD) and thermal CVD (ThCVD) processes, are described. It is shown that the (TEOS/O3) or (TEOS/O) ratio strongly influences the...
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