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NTIS 바로가기한국윤활학회 1997년도 제25회 춘계학술대회, 1997 Apr. 01, 1997년, pp.69 - 73
김종훈 (고려대학교 재료공학과) , 임대순 (고려대학교 재료공학과)
Microwave Plasma assisted CVD (Chemical Vapor Deposition) and DC Plasma CVD were used to prepare thin and thick diamond film, respectively. Diamond coated silicon nitride and fiee standing diamond thick film were eroded by silicon carbide particles. The velocity of the solid particle was about 220m/...
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