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NTIS 바로가기대한전자공학회 2002년도 하계종합학술대회 논문집(2), 2002 June 01, 2002년, pp.209 - 212
이미영 (상명대학교 컴퓨터시스템공학전공) , 이홍주 (상명대학교 컴퓨터시스템공학전공) , 성영섭 , 김훈
As the mask design rules get smaller, the probability of the process failure becomes higher doc to the narrow overlay margin between the contact and metal interconnect layers. To obtain the minimum process margin, a tabbing and cutting method Is applied with the rule based optical\ulcorner proximity...
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