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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2001년도 하계학술대회 논문집, 2001 July 01, 2001년, pp.1014 - 1017
김인성 (한국전기연구원 전자기소자연구그룹) , 송재성 (한국전기연구원 전자기소자연구그룹) , 김도한 (한국전기연구원 전자기소자연구그룹) , 조영란 (한국전기연구원 전자기소자연구그룹) , 허정섭 ((주) 메트론 기술연구소)
In recent years, The tantalum nitride(TaN) thin-film has been developed for the electronic resistor and capacitor. In this papers, The effect of thermal annealing in the temperature range of 300∼700
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