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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2002년도 하계학술대회 논문집, 2002 July 01, 2002년, pp.18 - 21
이미영 (상명대학교 컴퓨터시스템공학과) , 이흥주 (상명대학교 컴퓨터시스템공학과)
As the mask design rules get smaller, the probability of the process failure becomes higher due to the narrow overlay margin between the contact and metal interconnect layers. To obtain the minimum process margin, a tabbing and cutting method is applied with the rule based optical proximity correcti...
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