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NTIS 바로가기精密工學會誌論文集= Journal of the Japan Society for Precision Engineering, contributed papers, v.72 no.10, 2006년, pp.1291 - 1295
深川 容三 (キヤノン(株)) , 宮代 隆平 (東京農工大学) , 中森 眞理雄
In semiconductor lithography equipment, overlay errors are caused by various factors such as poor adjustment of the equipment, wafer deformation through the process, and environmental unstability of atmospheric pressure and temperature. To explore key factors of overlay errors, this paper proposes a...
MORI, YUZO. 極限へのアプローチ I 巨大・微細 原子の大きさに迫る加工. 精密機械, vol.51, no.1, 12-18.
2) 牧野?進, 林豊, 神谷三?: ステッパの新露光方式と位置決め技術の改新, 精密工??誌, 61, 12 (1995) 1676.
3) 深川容三, 品野勇治, 中森眞理雄: 半導?露光?置のステ?ジ格子計測法, 精密工??誌, 71, 6 (2005) 791.
4) 深川容三, 宮代隆平, 中森眞理雄: 半導?露光?置におけるディスト?ション計測の高精度化,精密工??誌, 71, 11 (2005) 1410.
5) W. Levinson: Statistical Process Control in Microelectronics Manufacturing, Semiconductor International, 11 (1994) 95.
6) Gary E. Flores, Warren W. Flack, Susan Avlakeotes, Mark A. Merrill: Monitoring and Diagnostic Techniques for Control of Overlay in Steppers, SPIE, Integrated Circuit Metrology, Inspection, and Process 2439, 5 (1995) 40.
7) Warren W. Flack, Susan Avlakeotes, David Chen, and Gary E. Flores : Efficient Overlay Optimization of Stepper Correctables, SPIE, Metrology, Inspection, and Process Control for Microlithography X 2725, 5 (1996) 400.
8) 佐藤康春,佐藤隆:ステッパにおけるオ?バレイ誤差の統計解析,精密工??誌,69,7 (2003) 1018
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