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나노구조 이중게이트 FinFET의 크기변화에 따른 문턱전압이동 분석
Analysis of Dimension Dependent Threshold Voltage Roll-off for Nano Structure Double Gate FinFET 원문보기

한국해양정보통신학회 2006년도 춘계종합학술대회, 2006 May 01, 2006년, pp.869 - 872  

정학기 (군산대학교 전자정보공학부) ,  이재형 (군산대학교 전자정보공학부) ,  정동수 (군산대학교 전자정보공학부)

초록
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본 연구에서는 나노구조 이중게이트 FinFET에 대하여 문턱전압이동 특성을 분석하였다. 분석을 위하여 분석학적 전류모델을 개발하였으며 열방사 전류 및 터널링 전류를 포함하였다. 열방사전류는 포아슨방정식에 의하여 구한 포텐셜분포 및 맥스월-볼쯔만통계를 이용한 캐리어분포를 이용하여 구하였으며 터널링전류는 WKB(Wentzel-framers-Brillouin)근사를 이용하였다. 이 두 모델은 상호 독립적이므로 각각 전류를 구해 더함으로써 문턱전압을 구하였다. 본 연구에서 제시한 모델을 이용하여 구한 문턱전압이동값이 이차원시뮬레이션값과 비교되었으며 잘 일치함을 알 수 있었다. 분석 결과 10nm이하에서 특히 터널링의 영향이 증가하여 문턱전압이동이 매우 현저하게 나타남을 알 수 있었다. 이러한 단채널현상을 감소시키기 위하여 채널두께 및 게이트산화막의 두께를 가능한한 얇게 제작하여야함을 알았으며 이를 위한 산화공정개발이 중요하다고 사료된다.

Abstract AI-Helper 아이콘AI-Helper

In this paper, the threshold voltage roll-off been analyzed for nano structure double gate FinFET. The analytical current model has been developed , including thermionic current and tunneling current models. The potential distribution by Poisson equation and carrier distribution by Maxwell-Boltzman ...

AI 본문요약
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문제 정의

  • 본 연구애서는 그림 1과 같이 대부분의 전자 전송이 발생하는 채널영역에 대한 전류 모델을 계산하고자 한다. 채널두께 와 게이트 산화막 두께 tox 그리고 채널길이 Lg 등을 변화시키면서 서브문턱스윙을 분석할 것이다.
  • 본 연구에서는 이중게이트 FinFET에 대한 크기 변화에 따른 단채널효과의 변화에 대하여 고찰하였다. 분석을 위하여 분석학적 전류 모델을 제시하였으며 문턱전압이하 영역에서 중요한 열방사 전류 그리고 게이트길이가 20nm이하서 중요한 전류메카니즘인 터널링전류를 각각 독립적으로 유도하여 차단전류를 구하고 단채널효과를 분석하였다.
  • 본 연구에서는 이중게이트 FinFET의 분석학적 전류모델을 이용하여 게이트산화막, 채널 두께 및 채널길이에 따른 문턱전압의 변화 및 드레인 유기 장벽 저하 등 단채널효과에 미치는 영향을 고찰하고자 한다. 사용된 전류모델은 포아슨방정식으로부터 유도되었으며 열방사 (thermionic emission) 및 터널링 (tunneling) 전류를 이용하여 전체 전류를 계산하였다.
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