$\require{mediawiki-texvc}$

연합인증

연합인증 가입 기관의 연구자들은 소속기관의 인증정보(ID와 암호)를 이용해 다른 대학, 연구기관, 서비스 공급자의 다양한 온라인 자원과 연구 데이터를 이용할 수 있습니다.

이는 여행자가 자국에서 발행 받은 여권으로 세계 각국을 자유롭게 여행할 수 있는 것과 같습니다.

연합인증으로 이용이 가능한 서비스는 NTIS, DataON, Edison, Kafe, Webinar 등이 있습니다.

한번의 인증절차만으로 연합인증 가입 서비스에 추가 로그인 없이 이용이 가능합니다.

다만, 연합인증을 위해서는 최초 1회만 인증 절차가 필요합니다. (회원이 아닐 경우 회원 가입이 필요합니다.)

연합인증 절차는 다음과 같습니다.

최초이용시에는
ScienceON에 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 로그인 (본인 확인 또는 회원가입) → 서비스 이용

그 이후에는
ScienceON 로그인 → 연합인증 서비스 접속 → 서비스 이용

연합인증을 활용하시면 KISTI가 제공하는 다양한 서비스를 편리하게 이용하실 수 있습니다.

Sentaurus Process를 이용한 도핑 공정 설계
Doping Process Design Using Sentaurus Process 원문보기

한국해양정보통신학회 2007년도 춘계종합학술대회, 2007 June 01, 2007년, pp.521 - 523  

박장군 (군산대학교 전자정보공학부) ,  정학기 (군산대학교 전자정보공학부) ,  이재형 (군산대학교 전자정보공학부) ,  정동수 (군산대학교 전자정보공학부) ,  이종인 (군산대학교 전자정보공학부)

초록
AI-Helper 아이콘AI-Helper

이 연구는 Sentaurus Process를 이용하여 실리콘(Si) 웨이퍼에 각각의 불순물들의 도핑 농도를 모의실험 하여 공정 방법과 순서, 온도, 깊이에 따른 도핑 농도의 변화를 나타내었다. 입력한 값에 대한 수치를 한눈에 알아 볼 수 있으며 공정이나 깊이, 도핑 농도에 따라 불순물의 집중도와 공정 방법에 따른 소자 특성의 변화를 한눈에 알아 볼 수 있어서 Sentaurus Process를 이용한 연구를 통해 우수한 소자를 개발하는데 도움이 되리라 본다. 이 연구에서는 공정 파라미터 값의 변화에 따른 도핑 분포를 Sentaurus Process 시뮬레이션을 통하여 관찰할 것이다.

AI 본문요약
AI-Helper 아이콘 AI-Helper

* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.

문제 정의

  • T-CAD 프로그램 중 Sentaurus Process라는 응용 프로그램을 사용하여 불순물 도핑에 대하여 분석하고자 한다. Sentaurus Process는 반도체 소자에 대한 연구에 쓰이는 프로그램으로 1D부터 3D까지 자신이 원하는 형식으로 디자인 할 수 있으며 이 연구에서는 Sentaurus Process를 이용 하여 각각의 수치를 입력함으로써 순수 실리콘 (Si) 웨이퍼에 붕소 (Boron), 안티몬 (Antimon y), 비소 (Arsenic) 롤 도핑 시킨 P-type 의 NPN Bipolar Transistor 소자를 만들어 봄으로써 입력한 공정 방법과 순서, 온도, 깊이에 해당하는 각각의 수치들을 일차원 시뮬레이션을 통해 쉽게 알아 볼 수 있다는 것을 확보 하고자 한다.
본문요약 정보가 도움이 되었나요?

관련 콘텐츠

저작권 관리 안내
섹션별 컨텐츠 바로가기

AI-Helper ※ AI-Helper는 오픈소스 모델을 사용합니다.

AI-Helper 아이콘
AI-Helper
안녕하세요, AI-Helper입니다. 좌측 "선택된 텍스트"에서 텍스트를 선택하여 요약, 번역, 용어설명을 실행하세요.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.

선택된 텍스트

맨위로