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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2005년도 하계학술대회 논문집 Vol.6, 2005 July 07, 2005년, pp.29 - 30
이재성 (위덕대학교) , 백종무 (대원과학대학) , 도승우 (경북대학교) , 장철영 (경북대학교) , 이용현 (경북대학교)
Experimental results are presented for the degradation of 3 nm-thick gate oxide (
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