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NTIS 바로가기한국반도체및디스플레이장비학회 2005년도 춘계 학술대회, 2005 May 01, 2005년, pp.139 - 145
도관우 (경북대학교 전자공학과) , 김경민 (경북대학교 전자공학과) , 양충모 (경북대학교 전자공학과) , 박성근 (경북대학교 전자공학과) , 나경일 (경북대학교 전자공학과) , 이정희 (경북대학교 전자공학과) , 이종현 (경북대학교 전자공학과)
In the study, in order to deposit TaN thin film using diffusion barrier and bottom electrode we made the Plasma Assisted ALD equipment and confirmed the electrical characteristic of TaN thin films deposited PAALD method, PAALD equipment depositing TaN thin film using PEMAT(pentakis(ethylmethlyamlno)...
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