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회전형 피치 툴 연마 가공용 확장형 툴 영향 함수의 광학 물질제거 특성
Material removal characteristics of dynamic TIF for rotating pitch tool polishing 원문보기

한국광학회 2007년도 하계학술발표회 논문집, 2007 July 01, 2007년, pp.73 - 74  

이현수 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ,  김석환 (연세대학교 천문우주학과 우주광학연구실) ,  양호순 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ,  이재협 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ,  이인원 (한국표준과학연구원 우주광학연구단) ,  이윤우 (한국표준과학연구원 우주광학연구단)

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문제 정의

  • p>현재까지 전통적인 피치 툴 연마 가공 공정의 핵심요소인 장인의 경험에 의한 정성적 공정 조절에 의해서는 대구경 정밀 광학 거울면의 가공 완료 시간 예측이 불안정하고, 동일한 성능을 갖는 광학 거울의 대량 생산이 어려운 단점을 갖고 있었다. 따라서 이러한 기존 가공 방식의 문제점을 극복하고자 강제적으로 회전하는 피치 툴을 이용한 연마 작업 시 물질 제거 특성에 대한 수치 모형 및 실험 연구를 진행하고 있다.
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