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제안 방법
- 이에따라 품질성과 기술부분은 포화상태에 접어들었으며, 그 방향은 시각적 측면으로 자연스럽게 전환되기 시작하였다. 따라서 본 논문이 다루고자 하는 부분은 기존 박막의 물리적, 역학적, 광학적 특성으로 인해 300°이상의 고온 박막 공정을 거친 IR Cut-off Filter영역으로 서, Glass기판 대신 아크릴 중합체로 투명성이 좋은 우수한 고분자 물질인 PMMA(Poly Methyl Meth Acrylate)기판[1]을 사용함에따라 고온 박막공정이 불가능함으로서 85°이하인 극저온(<150°)에서 증착을 실행하고자 박막 물질을 CeO 2(Cerium dioxide)로 대체하여 증착을 실행하였다.
- 실험에 사용된 시편의 두께는 297mum의 아크릴 재질로서, 세정 시간에 따른 기판의 광학적 특성을 분석하기 위해 각기 다른 세정시간에 대하여 투과특성을 분석하였으며, PMMA기판의 열적 특성을 분석하기 위해 기판온도를 각각70°, 100°, 120°로 설정하여 120분간 노출 시킨 뒤 그에따른 투과율 및 굴절률, 접촉각 테스트를 실시하였다. 또한 박막에 따른 PMMA기판의 물리적 특성을 분석하기 위해 실험에 사용된 CeO2, SiO2 및 무반사 코팅을 통하여 기판의 결합력과 증착률에 따른 특성을 분석하였다.
- 실험에 사용된 시편의 두께는 297mum의 아크릴 재질로서, 세정 시간에 따른 기판의 광학적 특성을 분석하기 위해 각기 다른 세정시간에 대하여 투과특성을 분석하였으며, PMMA기판의 열적 특성을 분석하기 위해 기판온도를 각각70°, 100°, 120°로 설정하여 120분간 노출 시킨 뒤 그에따른 투과율 및 굴절률, 접촉각 테스트를 실시하였다. 또한 박막에 따른 PMMA기판의 물리적 특성을 분석하기 위해 실험에 사용된 CeO2, SiO2 및 무반사 코팅을 통하여 기판의 결합력과 증착률에 따른 특성을 분석하였다.
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