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NTIS 바로가기대한전자공학회 2008년도 하계종합학술대회, 2008 June 18, 2008년, pp.385 - 386
신동원 (삼성전자 공과대학교) , 이성영 (삼성전자 공과대학교) , 김상식 (MEMORY사업부 FAB5팀) , 이중현 (MEMORY사업부 FAB5팀) , 한민석 (MEMORY사업부 FAB5팀)
Reducing the PR(Photoresist) dispense Rate is one of the important issues in Photolithography. It is a main concern that variation in PR dispense rate and existance of microbubble. so we need to measure the photoresist dispense rate more precisely. This paper presented a noble sensor of measuring th...
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