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XRD 분석과 FTIR 분석에 의한 비정질 박막의 특성 연구
Characteristic Properties of Organic Thin Film Surface on Si Semiconductor 원문보기

한국전기전자재료학회 2007년도 하계학술대회 논문집 Vol.8, 2007 June 21, 2007년, pp.112 - 113  

오데레사 (청주대학교)

초록
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$SiO_2$ 절연 박막위에 희석된 PMMA 유기물을 처리하였다. 유기물 처리량에 따른 $SiO_2$ 박막의 $620{\sim}1100\;cm^{-1}$ 영역의 FTIR 스펙트라를 분석한 결과 0.3~0.7%로 PMMA 처리된 박막에서 친핵성 반응이 밀어나는 것을 확인하였으며, 친핵성 반응이 일어나는 박막들에서 누설전류가 적었으며, 절연특성이 우수한 것을 확인하였다.

AI 본문요약
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문제 정의

  • [4-6] 유기물을 이용한 절연막은 박막내에 탄소의 함량에 따라 유기물 특성, 하이브리드 특성 그리고 무기물븍성을 나타내는 영역이 있는데 그 차이가 아주 작은 영역에서 나타나기 패문에 실험하는 영역을 넓게 선택하게 되면 찾아내기가 힘들다. 본 논문에서는 이러한 실리콘 반도체 내에서의 유기화학반응에 대한 연구를 진행하면서 실험에 사용된 여러가지 유기물의 전기적 특성 및 화학적 분석을 봉한 결과를 해석하고 있다.
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