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NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2006년도 추계학술대회 논문집 Vol.19, 2006 Nov. 09, 2006년, pp.22 - 23
손영수 (한국기계연구원) , 함상용 (한국기계연구원)
A process for removal of photoresist(PR) m semiconductor manufacturing using water vapor with ozone is presented. For the realization of the ozone/vapor mixture process, high concentration ozone generator and process facilities have developed. As a result of the silicon wafer PR strip test, we confi...
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