최소 단어 이상 선택하여야 합니다.
최대 10 단어까지만 선택 가능합니다.
다음과 같은 기능을 한번의 로그인으로 사용 할 수 있습니다.
NTIS 바로가기한국전기전자재료학회 2009년도 하계학술대회 논문집 Vol.10, 2009 June 18, 2009년, pp.88 - 89
김상용 (한국 폴리텍 대학 청주캠퍼스 반도체시스템학과) , 정우양 (한국 폴리텍 대학 청주캠퍼스 반도체시스템학과) , 이근만 (청주대학교 전기전자공학부) , 김창일 (중앙대학교 전기전자공학부)
In this paper, we investigated about wet cleaning effect as deep trench formation methods for Power chip devices. Deep trench structure was classified by two methods, PSU (Poly Stick Up) and Non-PSU structure. In this paper, we could remove residue defect during wet. cleaning after deep trench etch ...
* AI 자동 식별 결과로 적합하지 않은 문장이 있을 수 있으니, 이용에 유의하시기 바랍니다.
*원문 PDF 파일 및 링크정보가 존재하지 않을 경우 KISTI DDS 시스템에서 제공하는 원문복사서비스를 사용할 수 있습니다.
※ AI-Helper는 부적절한 답변을 할 수 있습니다.