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NTIS 바로가기한국재료학회 2010년도 춘계학술발표대회, 2010 May 13, 2010년, pp.49.1 - 49.1
Lee, Jeong-Gi (인하대학교 신소재공학부) , Hwang, Seong-Jin (인하대학교 신소재공학부) , Lee, Seong-Min (한국 세라믹 기술원 이천분원) , Kim, Hyeong-Sun (인하대학교 신소재공학부)
The particle generation during the plasma enhanced process is highly considered as serious problem in the semiconductor manufacturing industry. The material for the plasma processing chamber requires the plasma etching characteristics which are homogeneously etched surface and low plasma etching dep...
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