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NTIS 바로가기Electron Devices Technology and Manufacturing Conference (EDTM), 2017 IEEE, 2017 Feb, 2017년, pp.169 - 171
Scheideler, William J. (University of California Berkeley, Berkeley, CA, USA) , Subramanian, Vivek (University of California Berkeley, Berkeley, CA, USA)
We report on low-temperature additive processing methods for fabrication of high-performance InOx thin film transistors (TFTs) based on UV-annealed, printed high-k AlOx gate dielectrics. The impact of UV annealing on dielectric properties, TFT performance, and bias-stress stability is studied....
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