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NTIS 바로가기국가/구분 | 일본특허청(JP) 공개특허 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | JP-0069347 (2010-03-25) |
공개번호 | JP-0201719 (2011-10-13) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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(PURPOSE)To provide a method for adjusting secondary particle size in producing colloidal silica containing silica secondary particles which are dense and highly pure and which further have bent structures and/or branched structures depending on a particle growth method. ! The method for adjusting s
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