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NTIS 바로가기국가/구분 | WIPO(WO) A1 공개 |
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국제특허분류(IPC7판) |
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출원번호 | JP2020/016437 (2020-04-14) |
공개번호 | 2020/218089 (2020-10-29) |
우선권정보 | 2019-080611 (2019-04-22) |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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The present invention addresses the problem of providing colloidal silica for metal polishing, whereby a high polishing rate can be achieved. The aforementioned problem can be solved by this colloidal silica for metal polishing, containing silica particles in which a functional group including at le
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