초록 ▼

본 발명은 반도체 제조에서 사진 공정에 이용되는 레이저 장치에 관한 것으로, 특히 레이저 장치에 공급되는 가스내의 불순물을 제거 함으로써 레이저 장치의 광감도를 높이고 수명을 연장시키는 가스 불순물 제거 장치에 관한 것이다.포토 리소그래피 공정에 이용되는 액시머 레이저 장치에는 레이저 투과 경로에 퍼지용 가스인 질소 가스를 주입하게 되는데 불순물 성분이 레이저광에 의해 분해되어 광학 소자, 기능 소자 표면에 부착되면서 레이저 출력을 저하시키므로 관련 부품의 교환이 필요하여 많은 경비가 소요된다.레이저 장치와 가스 정제기를 겸비한 가

본 발명은 반도체 제조에서 사진 공정에 이용되는 레이저 장치에 관한 것으로, 특히 레이저 장치에 공급되는 가스내의 불순물을 제거 함으로써 레이저 장치의 광감도를 높이고 수명을 연장시키는 가스 불순물 제거 장치에 관한 것이다.포토 리소그래피 공정에 이용되는 액시머 레이저 장치에는 레이저 투과 경로에 퍼지용 가스인 질소 가스를 주입하게 되는데 불순물 성분이 레이저광에 의해 분해되어 광학 소자, 기능 소자 표면에 부착되면서 레이저 출력을 저하시키므로 관련 부품의 교환이 필요하여 많은 경비가 소요된다.레이저 장치와 가스 정제기를 겸비한 가스 불순물 제거 장치에 있어서, 제1 플레이트(1)로 박스 형태의 외형을 형성하며 동일 재질의 제2 플레이트(2)를 서로 엇갈린 빗살 구조로 내부에 다층 적재하고, 박스 형태의 외형 상하부에 가스 주입구(3) 및 배출구(3′)를 구비한 가스 불순물 제거 장치를 레이저 장치와 가스 정제기 사이에 배치함을 특징으로 한다. 제1, 2 플레이트(1,2)의 재질은 레이저광의 95% 이상을 투과시키는 석영 및 형석이며 제1 플레이트는 가스 주입시 외부 충격 및 압력을 견딜 수 있도록 제2 플레이트 보다 두꺼워야 하고 제2 플레이트는 투과율 저하를 방지할 수 있는 범위의 두께로 하며 주입되는 가스가 흡착되는 표면적을 증가시키기 위해 서로 엇갈린 빗살 형태로 구성함을 특징으로 한다.

대표청구항

레이저장치와 가스정제기를 겸비한 가스 불순물 제거장치에 있어서, 제1플레이트(1)로 박스형태의 외형을 형성하며 동일재질의 제2플레이트(2)를 서로 엇갈린 빗살구조로 내부에 다층 적재하고, 상기 박스형태의 외형 상ㆍ하부에 가스주입구(3) 및 배출구(3′)를 구비한 가스 불순물 제거장치를 상기 레이저장치와 가스정제기 사이에 배치함을 특징으로 하는 가스 불순물 제거장치.

레이저장치와 가스정제기를 겸비한 가스 불순물 제거장치에 있어서, 제1플레이트(1)로 박스형태의 외형을 형성하며 동일재질의 제2플레이트(2)를 서로 엇갈린 빗살구조로 내부에 다층 적재하고, 상기 박스형태의 외형 상ㆍ하부에 가스주입구(3) 및 배출구(3′)를 구비한 가스 불순물 제거장치를 상기 레이저장치와 가스정제기 사이에 배치함을 특징으로 하는 가스 불순물 제거장치.