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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/공개특허 | |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-2017-7026655 (2017-09-21) | |
공개번호 | 10-2017-0120153 (2017-10-30) | |
우선권정보 | 유럽특허청(EPO)(EP) 15158935.5 (2015-03-13) | |
국제출원번호 | PCT/EP2015/079282 (2015-12-10) | |
국제공개번호 | WO 2016/146217 (2016-09-22) | |
번역문제출일자 | 2017-09-21 | |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020177026655 | |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2017-09-21) | |
심사진행상태 | 거절결정(재심사) | |
법적상태 | 거절 |
리소그래피 방법은 기판 상의 다수의 필드를 노광하는 단계, 필드(1001)에 대한 데이터를 획득하는 단계, 및 후속 노광 시에 상기 필드의 노광을 정정하는 단계를 포함한다.이러한 방법은 획득된 데이터에 기초하여, 상기 필드의 하나 이상의 서브-필드(408, 1011a, 1011b)를 규정하는 단계를 포함한다.각각의 서브-필드에 관련된 데이터는 처리되어 서브-필드 정정 정보를 생성한다.서브-필드의 후속 노광은 서브-필드 정정 정보를 사용하여 정정된다.어떤 필드 내의 특정 서브-필드(408)의 데이터를 참조하여 리소그래피 장치를 제어함
리소그래피 방법으로서,a.기판 상의 다수의 필드를 노광하는 단계;b.필드에 대한 데이터를 획득하는 단계;c.획득된 데이터에 기초하여 상기 필드의 서브-필드를 규정하는 단계;d.서브-필드 정정 정보를 생성하도록, 상기 서브-필드에 관련된 데이터를 처리하는 단계; 및e.상기 서브-필드 정정 정보를 사용하여 상기 서브-필드의 노광을 정정하는 단계를 포함하는, 리소그래피 방법.
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