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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC9판) |
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출원번호 | 10-2010-0047824 (2010-05-24) |
공개번호 | 10-2010-0132437 (2010-12-17) |
등록번호 | 10-1120149-0000 (2012-02-17) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1020100047824 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (2010-05-24) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
리소그래피 방법은, 측벽을 갖는 제1 패턴 형상부를 제1 재료층에 형성하기 위해 제1 재료층을 방사 빔에 노광시키는 단계로서, 측벽의 측벽 각도를 조절하기 위해 방사 빔의 초점 특성을 제어하는, 단계; 제1 패턴의 측벽에 코팅을 제공하기 위해 제2 재료층을 제1 패턴 형상부 위에 제공하는 단계; 제2 재료층의 일부분을 제거하여 제1 패턴의 측벽에 제2 재료층의 코팅을 잔류시키는 단계; 제1 재료층으로 형성된 제1 패턴을 제거하여, 제1 패턴의 측벽 상의 코팅을 형성하는 제2 재료층의 적어도 일부를 기판에 잔류시키고, 기판 상에 잔류
리소그래피 방법에 있어서,기판의 표면 상에 제1 재료층을 제공하는 단계;측벽을 갖는 제1 패턴 형상부를 상기 제1 재료층에 형성하기 위해 상기 제1 재료층의 일부분을 방사 빔에 노광시키는 단계로서, 상기 측벽의 측벽 각도를 조절하기 위해 상기 방사 빔의 초점 특성을 제어하는, 단계;상기 제1 패턴 형상부의 측벽에 코팅을 제공하는 제2 재료층을, 상기 제1 패턴 형상부 위에 제공하는 단계;상기 제2 재료층의 일부분을 제거하여 상기 제1 패턴 형상부의 측벽에 상기 제2 재료층의 코팅을 잔류시키는 단계;상기 제1 재료층으로 형성된 상기
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