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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1993-0702614 (1993-09-01) |
공개번호 | 10-1994-0700115 (1994-02-21) |
등록번호 | 10-0229300-0000 (1999-08-16) |
국제출원번호 | PCT/GB1992/000304 (1992-02-20) |
국제공개번호 | WO1992015336 (1992-09-17) |
번역문제출일자 | 1993-09-01 |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019930702614 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1997-02-19) |
심사진행상태 | 등록결정(일반) |
법적상태 | 소멸 |
가스상 매질을 활성화시키고, 활성화시킨 매질이 하전된 종이 거의 없음을 보장하며 물체를 멸균시키기에 충분한 시간동안 멸균시킬 물체를 활성화시킨 가스상 매질에 노출시키는 작업을 포함하여 물체를 멸균하는 방법.
가스상 매질을 활성화시키고, 가스상 매질이 하전된 종이 거의 없도록 보장하며 물체를 멸균시키기에 충분한 시간 동안 멸균시킬 물체를 활성화된 가스상 매질에 노출시키는 작업을 포함하여, 물체를 멸균하는 방법.제1항에 있어서, 가스상 매질을 활성화시키는 작업이 가스상 매질의 분자를 해리 및/또는 진동적으로 여기된 종이 되도록함을 포함하는 방법.제2항에 있어서, 가스상 종의 해리 및/또는 전자적 여기를, 가스상 종을 에너지 입자충격, 직류 및 가변전기장에 의해 수행하거나 화학적으로 수행하거나 전자기적 방사에 의해 성취하는 방법.제3항에 있
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