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NTIS 바로가기국가/구분 | 한국(KR)/등록특허 |
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국제특허분류(IPC8판) |
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출원번호 | 10-1996-0011059 (1996-04-12) |
공개번호 | 10-1996-0038490 (1996-11-21) |
등록번호 | 10-0327281-0000 (2002-02-22) |
DOI | http://doi.org/10.8080/1019960011059 |
발명자 / 주소 |
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출원인 / 주소 |
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대리인 / 주소 |
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심사청구여부 | 있음 (1998-11-10) |
심사진행상태 | 이의신청후 등록유지 |
법적상태 | 소멸 |
하기식의 반복단위를 갖는 폴리이미드 전구체:(상기식에서 R1은 4가의 유기기이고; R2는 2가의 페닐기임): 는 이미지 형성에 탁월하며, i-라인 스테퍼를 사용하여 패턴을 형성시키기에 특히 적합하며, 그리고 광감성을 폴리이미드 전구체에 부여함으로써 광감성 수지 조성물을 산출하는데, 전술한 광감성 수지 조성물은 반도체 디바이스용 표면 보호 필름 또는 다층 배선 보오드용 층간 절연 필름을 형성시키기에 특히 적합하다.
하기식(Ⅰ-1)의 반복단위를 갖는 폴리이미드 전구체; [상기식에서, R1은 4가의 유기기이고; R2는 하기식 (Ⅲ)의 기이다;(상기식에서, R3, R4, R5및 R6은 독립적으로 수소원자 또는 1가 유기기이며, R3내지 R6중의 적어도 두 개는 독립적으로 1가의 유기기이다.)]
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