초록

제조과정에서 식각조건의 조정을 위한 더미패턴(Dummy Pattern)을 갖는 반도체장치에 관한 것이다. 본 발명은 더미패턴(Dummy Pattern)을 갖는 반도체장치에 있어서, 식각공정에서 식각정도를 측정할 수 있도록 반도체 장치의 주변영역에 반도체회로가 형성되는 셀영역의 패턴과 유사한 복잡도의 식각패턴을 갖는 더미패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 따르면 식각공정시 정확한 조건을 구할 수 있으므로 식각 공정의 신뢰성과 제품의 질을 향상시키는 효과를 얻을 수 있다.

대표청구항

식각공정에서 식각정도를 측정할 수 있도록 반도체장치의 주변영역에 반도체회로가 형성되는 셀영역의 패턴과 유사한 복잡도의 식각패턴을 갖는 더미패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 더미패턴(Cummy Pattern)을 갖는 반도체장치.

식각공정에서 식각정도를 측정할 수 있도록 반도체장치의 주변영역에 반도체회로가 형성되는 셀영역의 패턴과 유사한 복잡도의 식각패턴을 갖는 더미패턴이 형성되어 있는 것을 특징으로 하는 더미패턴(Cummy Pattern)을 갖는 반도체장치.