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연합인증

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반도체 공정 웨이퍼 원문보기

IPC분류정보
국가/구분 한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)
  • H01L-023/52
출원번호 10-1996-0031894 (1996-07-31)
공개번호 10-1998-0012393 (1998-04-30)
DOI http://doi.org/10.8080/1019960031894
발명자 / 주소
  • 김홍기 / 서울특별시 용산구 청파동 *가 **-**번지
  • 장일진 / 경기도 수원시 팔달구 매탄 *동 한국아파트 ***동 ***호
출원인 / 주소
  • 삼성전자주식회사 / 경기도 수원시 영통구 매탄동 ***
대리인 / 주소
  • 박만순; 신동준 (PARK, Man Soon)
  • 서울 강남구 역삼동 ***-** 덕원빌딩 *층; 서울서초구서초동****-*서초제일빌딩***호(인벤티브국제특허법률사무소)
심사진행상태 취하(심사미청구)
법적상태 취하

초록

본 발명은 범프(Bump)관련제품의 반도체 공정 웨이퍼에 있어서, 벰프 형성전에 상기 웨이퍼의 뒷면을 밀봉시키기 위해 사용되는 밀봉부재와의 접촉폭보다 플랫존(Flat Zone)의 폭이 넓은 것을 특징으로 한다. 따라서, 본 발명에 의하면 범프 형성공정의 진행시 밀봉용 부재와의 접촉에 의한 플랫존 바로 위쪽 라인(Line)의 칩(Chip)이 손상되는 것을 방지할 수 있으므로 웨이퍼당 완전한 칩의 획득수율을 증가시킬 수 있다는 효과가 있다.

대표청구항

범프 관련제품의 반도체 공정 웨이퍼에 있어서, 범프 형성전에 상기 웨이퍼의 뒷면을 밀봉시키기 위해 사용되는 밀봉부재와의 접촉폭보다 상기 웨이퍼의 플랫존의 폭이 넓은 것을 특징으로 하는 범프 관련제품의 반도체 공정 웨이퍼.※ 참고사항 : 최초출원 내용에 의하여 공개하는 것임.

발명자의 다른 특허 :

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