[특허]웨이퍼 절연층 연마용 슬러리의 제조방법

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[한국특허] 웨이퍼 절연층 연마용 슬러리의 제조방법 원문보기

IPC분류정보
국가/구분	한국(KR)/공개특허
국제특허분류(IPC8판)	H01L-021/304
출원번호	10-1998-0038194 (1998-09-16)
공개번호	10-2000-0019872 (2000-04-15)
DOI	http://doi.org/10.8080/1019980038194
발명자 / 주소	이길성 / 서울특별시 관악구 봉천동 **- 보라매 삼성 아파트 *동 호 이재석 / 경기도 의왕시 오전동 동백 아파트 동 **호 김석진 / 서울특별시 은평구 신사동 -호 장두원 / 대전광역시 유성구 전민동 세종 아파트 동 **호
출원인 / 주소	제일모직주식회사 / 경상북도 구미시 공단동 ***
대리인 / 주소	김윤배; 이범일 (KIM, Yoon Bae) 서울 종로구 관훈동 **- 동덕빌딩 층; 서울 종로구 관훈동 *- 동덕빌딩 *층(대양국제특허법률사무소)
심사청구여부	있음 (2001-04-18)
심사진행상태	거절결정(일반)
법적상태	거절

초록

본 발명은 퓸(fumed) 실리카를 원료로 절연층 연마용 슬러리의 제조방법을 제공하기 위한 것이다.본 발명에서의 슬러리는 연마입자인 실리카에 암모늄염을 0.001 내지 0.5중량%를 첨가하여 분산시킨 것으로 실리카의 입자 크기 분포가 5 내지 500㎚의 분포를 가지며, 이때 사용되는 암모늄염은 C1 내지 C30의 알킬트리메틸 클로라이드 또는 브로마이드를 이용하는 것을 특징으로 한다.본 발명의 방법에 의해 제조된 슬러리를 이용하여 반도체 디바이스를 연마시킬 때 그 연마속도 및 μ-스크레치성에서 우수한 결과를 나타내게 된다.

대표청구항

연마속도 및 μ-스크레치성이 개선된 웨이퍼 절연층 연마용 슬러리를 제조하는데 있어서, 연마 입자인 실리카에 암모늄염을 첨가한 후 함께 분산시켜서 됨을 특징으로 하는 웨이퍼 절연층 연마용 슬러리의 제조방법.

발명자의 다른 특허 :

이 특허에 인용된 특허 (1)

[한국] 나트륨 및 금속의 함량이 적은 실리카 연마슬러리 | 존에이.롬버거, 찰스씨.패인
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이 특허를 인용한 특허 (2)

[한국] 산화막용 ＣＭＰ 슬러리 조성물 및 이를 이용한 반도체소자의 형성 방법 | 정종구
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[한국] 반도체 디바이스의 산화막 연마용 ＣＭＰ 슬러리 | 노현수, 이길성, 이재석, 도원중, 강경문, 이동준, 김남수, 임영삼
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관련 콘텐츠

특허 원문 보기

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IPC 상위 출원인

이 특허와 함께 이용한 콘텐츠

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특허정보
IPC	Description
A	생활필수품
A62	인명구조; 소방(사다리 E06C)
A62B	인명구조용의 기구, 장치 또는 방법(특히 의료용에 사용되는 밸브 A61M 39/00; 특히 물에서 쓰이는 인명구조 장치 또는 방법 B63C 9/00; 잠수장비 B63C 11/00; 특히 항공기에 쓰는 것, 예. 낙하산, 투출좌석 B64D; 특히 광산에서 쓰이는 구조장치 E21F 11/00)
A62B-1/08	.. 윈치 또는 풀리에 제동기구가 있는 것

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